Добрый день? Как вы? Я хорошо, спасибо)
Вот, пытаюсь наладить максимально сщадящий метод кисления: насыщение свободного основания 4ммс газообразным HCl отгоняемым от реакции H2SO4+NaCl.
Бромироааниме и последущее метилирование проводятся в дхм, при насыщннии его газообразным HCl, при связывании с своболным основанинм будет выпадать на дно?
И еще момент: при таком методе в итоге необходимо профильтровывать муку мефа из дхм, что делать не хотелось бы.
Может, имеет смысл добавать к дхм с основанием перед кислением дистилированной воды?
Тогда гидрохлорид сразу будет в воду переходить.
Вот, пытаюсь наладить максимально сщадящий метод кисления: насыщение свободного основания 4ммс газообразным HCl отгоняемым от реакции H2SO4+NaCl.
Бромироааниме и последущее метилирование проводятся в дхм, при насыщннии его газообразным HCl, при связывании с своболным основанинм будет выпадать на дно?
И еще момент: при таком методе в итоге необходимо профильтровывать муку мефа из дхм, что делать не хотелось бы.
Может, имеет смысл добавать к дхм с основанием перед кислением дистилированной воды?
Тогда гидрохлорид сразу будет в воду переходить.
